簡析光譜成像技術(shù)的發(fā)展趨勢
發(fā)布時間:2023-03-30
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近幾年,高光譜成像技術(shù)發(fā)展迅速,應(yīng)用日益廣泛。根據(jù)國外某機構(gòu)的研究報告預(yù)測,2030年全球高光譜成像系統(tǒng)市場規(guī)模將達558億美元。巨大的發(fā)展空間吸引了眾多儀器廠家的關(guān)注,理清行業(yè)發(fā)展的方向尤為重要。本文從成本、技術(shù)、應(yīng)用三個方面簡單分析了光譜成像技術(shù)的發(fā)展趨勢。
近幾年,高光譜成像技術(shù)發(fā)展迅速,應(yīng)用日益廣泛。根據(jù)國外某機構(gòu)的研究報告預(yù)測,2030年全球高光譜成像系統(tǒng)市場規(guī)模將達558億美元。巨大的發(fā)展空間吸引了眾多儀器廠家的關(guān)注,理清行業(yè)發(fā)展的方向尤為重要。本文從成本、技術(shù)、應(yīng)用三個方面簡單分析了光譜成像技術(shù)的發(fā)展趨勢。
成本:低成本和小型化
雖然光譜成像技術(shù)的目標區(qū)分能力已經(jīng)在應(yīng)用中得到證明,但是此技術(shù)目前還是主要作為科學(xué)研究工具,應(yīng)用于實驗室作為光譜分析儀器或航天、航空等遙感領(lǐng)域?,F(xiàn)有成熟的光譜成像技術(shù)的速度、體積、成本,限制了光譜成像技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。為縮短研究和產(chǎn)業(yè)之間的差距,隨著光場成像技術(shù)、mems技術(shù)、量子點技術(shù)、超表面結(jié)構(gòu)技術(shù)、芯片鍍膜技術(shù)等的應(yīng)用,光譜成像技術(shù)正朝著小型化、低成本方向發(fā)展。
技術(shù):立體化和動態(tài)化
常規(guī)的色散型、濾光型、干涉型光譜成像方式均需要某種形式的掃描,,這種空間或光譜掃描往往需要數(shù)秒甚至分鐘時間以獲取完整光譜數(shù)據(jù)立方體,僅適用于探測靜態(tài)場景、靜止目標,不適用于工作在光照變化、大氣擾動等復(fù)雜條件,難以探測動態(tài)目標。為滿足光譜成像應(yīng)用于復(fù)雜工況條件,光譜成像技術(shù)正向著實時、快照式方向發(fā)展。
應(yīng)用:民用化和產(chǎn)業(yè)化
高光譜成像技術(shù)的發(fā)展可以追溯到上世紀80年代,當(dāng)時主要應(yīng)用在航天和遙感領(lǐng)域,并一直延續(xù)到2000年;2000年左右,市場上開始出現(xiàn)了一批商品化的高光譜設(shè)備,主要以光柵分光和液晶可調(diào)諧濾波器分光兩種技術(shù)為主。在這些儀器的基礎(chǔ)上,主要的應(yīng)用領(lǐng)域也由最初的航天、農(nóng)業(yè)、軍事拓展到工業(yè)分選、文保、生物醫(yī)學(xué)等。在此期間,雖然儀器的成本還比較高,多數(shù)的應(yīng)用還處在研究階段,不過在一些行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域已經(jīng)開始產(chǎn)出研究成果了;高光譜技術(shù)和應(yīng)用市場進入了快速發(fā)展的階段,在多個應(yīng)用領(lǐng)域都有了比較成熟的解決方案。特別是近幾年來,人工智能的快速發(fā)展也為高光譜成像技術(shù)的應(yīng)用開發(fā)和拓展提供了更大的發(fā)展空間。從整體上來看,朝著民用化商品化產(chǎn)業(yè)化的方向發(fā)展。
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